集成电路产业含氟废水处理工程

戴荣海

doi:10.13205/j.hjgc.200701009

CN 11-2097/X ISSN 1000-8942

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集成电路产业含氟废水处理工程

戴荣海

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戴荣海. 集成电路产业含氟废水处理工程[J]. 环境工程, 2007, 25(1): 29-30. doi: 10.13205/j.hjgc.200701009

引用本文:

戴荣海. 集成电路产业含氟废水处理工程[J]. 环境工程, 2007, 25(1): 29-30. doi: 10.13205/j.hjgc.200701009

引用本文:

戴荣海. 集成电路产业含氟废水处理工程[J]. 环境工程, 2007, 25(1): 29-30. doi: 10.13205/j.hjgc.200701009

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- 刊出日期: 2007-02-22

摘要

摘要: 介绍采用三级反应一级沉淀为主体工艺,处理集成电路产业含氟废水的实际应用情况和工程治理效果。实践表明,采用本处理技术,能确保出水水质氟离子浓度达到上海市《污水综合排放标准》(DB31/199-1997)的二级标准,即F-浓度≤10mg/L。

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