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三槽氧化沟内底推位置与积泥厚度的分析研究

孔凡博 张耀宗

孔凡博, 张耀宗. 三槽氧化沟内底推位置与积泥厚度的分析研究[J]. 环境工程, 2013, 31(4): 6-8. doi: 10.13205/j.hjgc.201304002
引用本文: 孔凡博, 张耀宗. 三槽氧化沟内底推位置与积泥厚度的分析研究[J]. 环境工程, 2013, 31(4): 6-8. doi: 10.13205/j.hjgc.201304002

三槽氧化沟内底推位置与积泥厚度的分析研究

doi: 10.13205/j.hjgc.201304002
  • 摘要: 氧化沟工艺由于进水中含有大量的无机颗粒,无机颗粒的沉淀导致沟内积泥较厚。为了不影响正常生产,依据经验数据,依次对1号、2号氧化沟安装底推。对沟内积泥情况及影响因素进行分析比较,得出氧化沟的积泥主要由进水中密度较大的无机颗粒造成,且积泥规律与底推安装位置和运行情况相关。
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出版历程
  • 刊出日期:  2013-08-22

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