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硅藻基As(V)离子印迹材料的制备及表征

余清凤 马丽丽 陈南春 钟溢健 解庆林 梁效铭 游少鸿

余清凤, 马丽丽, 陈南春, 钟溢健, 解庆林, 梁效铭, 游少鸿. 硅藻基As(V)离子印迹材料的制备及表征[J]. 环境工程, 2018, 36(3): 64-68. doi: 10.13205/j.hjgc.201803013
引用本文: 余清凤, 马丽丽, 陈南春, 钟溢健, 解庆林, 梁效铭, 游少鸿. 硅藻基As(V)离子印迹材料的制备及表征[J]. 环境工程, 2018, 36(3): 64-68. doi: 10.13205/j.hjgc.201803013

硅藻基As(V)离子印迹材料的制备及表征

doi: 10.13205/j.hjgc.201803013
  • 摘要: 以硅藻为载体,采用"接枝法"在其表面键连N-氨乙基-γ氨丙基三甲氧基硅烷(AAPTS),以As(V)为模板,环氧氯丙烷(ECH)为交联剂,探讨了p H、交联剂用量、交联温度、交联时间等条件对制备硅藻基As(V)离子印迹材料(IIP)的影响。并通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和红外光谱(FTIR)对IIP制备前后微观形貌、物相组成和官能团的变化进行了分析,探究了IIP对As(V)的吸附行为特征。结果表明:制备IIP条件为p H=10,环氧氯丙烷(ECH)的用量为8.2 m L,交联温度70℃,交联时间4 h,此时As的去除率为96.1%。当p H为5~10时,与非印迹材料相比,IIP对目标离子具有更快的吸附速率。
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  • 刊出日期:  2018-03-31

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